公司成立于1994年，位于漕河泾新兴技术开发区，为专业生产及销售光掩模及提供相关服务的外商独资企业。发展至今，我公司已逐步确立在中国半导体制造业中优质光掩模产品主要供应厂商的领先地位，向国内以及全球各地芯片制造商和设计公司提供亚微米设计规则的光掩模产品。我们以产品的质量为根本，竭诚为客户服务为宗旨。2003年获得英国劳氏船级社颁发的2000版ISO－9001证书。目前公司更名为上海凸版光掩模有限公司.详情可查阅www.photomask.com.